【1998年】JST委託開発とリソグラフィー技術開発が始動
ホログラム・回折格子技術の内製化
当時、松下電器(現:パナソニック)からレーザーホログラムの試作・開発依頼を受けていたものの、社内には必要な開発装置がなく、米国のMems Optical(現:JENOPTIK)に原板を供給し、半導体前工程を応用したプロセスで原板を作製していた。
一方で、この技術を内製化するため、イオンエッチング装置を導入し、大阪大学・有留教授(故)との受託研究により、ニッケルへのイオンエッチングによる回折格子加工の研究を開始した。さらに都市エリア産学官連携促進事業を活用し、サブ波長格子の研究にも着手した。
2000年には、山崎事業所に露光装置とイオンエッチング装置を移設することで回折格子の内製化体制を整備し、社内のみで一連のプロセスが完結できるようになった。2001年には、OSTECの勧めを受け、大阪府立大学・岩田教授、菊田教授が持つ原権利を基に、JST(科学技術振興機構)の委託開発事業に採択された。約3億円の設備投資を行い、超精密クリーンルーム、電子線描画装置(EB)、電子線顕微鏡(SEM)を導入した。これにより回折格子金型の製作が進み、DVD・CD・Blu-rayなど光ディスク関連分野から多数の引き合いを獲得した。同時に、波長より短い格子構造体(サブ波長格子)の開発を進め、ARS(反射防止構造)、PBS(偏光分離素子)、波長分離素子の権利化と試作開発にも成功した。
これらの成果をもとに、2003年より事業化に向けた取り組みが本格化し、現在の礎となる技術群が確立された。




































